HAMAMATSU滨松

HAMAMATSU 滨松 C12965 光学针孔检测单元

C12965 是一款针孔检测单元,与氙气闪光灯结合使用时,可检测 1 μm 或更小的针孔。C12965 可有效发现极小的缺陷,如微小的针孔和微裂纹。它还支持高速传送带,实现高达每分钟 600 件的高速检测。

HAMAMATSU 滨松 C12760 光学针孔检测单元

C12760 是一款多功能针孔检测单元,专为可充电电池隔膜而设计,可以检测半透明材料中的针孔,这种材料允许光线通过,因此无法通过我们产品阵容的其他产品进行检测。C12760 与最大速度达每分钟 600 米的高速传送带兼容,可通过在传送带上安装多个检查单元支持不同的工件宽度。

HAMAMATSU 滨松 C12570 系列 光学针孔检测单元

C12570 系列设计用于检查铝层压薄膜和金属箔中的针孔缺陷。在薄膜针孔检测单元中,C12570 系列具有极高的灵敏度,能够检测直径低至 2 μm 的针孔,非常适合不允许存在针孔,并且精准检测优先于高速传送的严格检查用途。

HAMAMATSU 滨松 C12190 系列 光学针孔检测单元

C12190 是一款光学针孔检测单元,专为铝层压薄膜和金属箔检查进行优化。它提供 300 至 1800 mm 的检测宽度选择,以满足工件尺寸要求,并支持高达 600 米/分钟的高速输送线,且不会降低检查精度。

HAMAMATSU 滨松 C11750 光学针孔检测单元

C11750 是一款光学针孔检测单元,设计用于检测可充电电池和燃料电池隔膜的铝层压袋中的针孔缺陷。C11750 提供光源单元和聚光镜单元(单独出售),可定制以匹配各种工件形状。

HAMAMATSU 滨松 C11740 光学针孔检测单元

C11740 光学针孔检测单元专为检测罐中的针孔而设计。C11740 具有一个较大的受光表面,并包含一个入光过多保护电路。它的最大检测速度高达每分钟 2400 件,是制罐机械生产线的理想选择。滨松还提供针对罐盖检查优化的光学针孔检测单元,有关具体产品需求,请联系我们。

HAMAMATSU 滨松 C11295 Multipoint NanoGauge

Multipoint NanoGauge 膜厚测量系统 C11295 是一种利用光谱干涉法的薄膜膜厚测量系统。作为半导体制造过程的一部分,它旨在测量薄膜厚度,以及用于对安装在半导体制造设备上的 APC 和薄膜进行质量控制。允许实时进行多通道测量,可在薄膜表面同时进行多通道测量和多点测量。同时,它还可以测量反射率(透射率)、物体色及其随时间的变化。

HAMAMATSU 滨松 C11011-22W Optical MicroGauge 膜厚测量系统

Optical MicroGauge 膜厚测量系统 C11011 是一种利用激光干涉法的薄膜膜厚测量系统。可在 60 Hz 时进行高速测量,因此也可用于工厂内的线阵测量。与可选的映射系统结合使用,以便进行原型厚度分布测量。它可用于从监控制造过程到质量控制的各种用途。 C11011-22W 可测量 25 μm 至 2.9 mm 以及 10 μm 至 1.2 mm 的玻璃。(可测量层数:最多 10 层)

HAMAMATSU 滨松 C11011-22 Optical MicroGauge 膜厚测量系统

Optical MicroGauge 膜厚测量系统 C11011 是一种利用激光干涉法的薄膜膜厚测量系统。可在 60 Hz 时进行高速测量,因此也可用于工厂内的线阵测量。与可选的映射系统结合使用,以便进行原型厚度分布测量。它可用于从监控制造过程到质量控制的各种用途。 C11011-22 可测量 25 μm 至 2.2 mm 以及 10 μm 至 0.9 mm 的玻璃。(可测量层数:最多 10 层)

HAMAMATSU 滨松 C11011-02W Optical MicroGauge 膜厚测量系统

Optical MicroGauge 膜厚测量系统 C11011 是一种利用激光干涉法的薄膜膜厚测量系统。可在 60 Hz 时进行高速测量,因此也可用于工厂内的线阵测量。与可选的映射系统结合使用,以便进行原型厚度分布测量。它可用于从监控制造过程到质量控制的各种用途。 C11011-02W 可测量 25 μm 至 2.9 mm 以及 10 μm 至 1.2 mm 的玻璃。

HAMAMATSU 滨松 C11011-02 Optical MicroGauge 膜厚测量系统

Optical MicroGauge 膜厚测量系统 C11011 是一种利用激光干涉法的薄膜膜厚测量系统。可在 60 Hz 时进行高速测量,因此也可用于工厂内的线阵测量。与可选的映射系统结合使用,以便进行原型厚度分布测量。它可用于从监控制造过程到质量控制的各种用途。 C11011-02 可测量 25 μm 至 2.2 mm 以及 10 μm 至 0.9 mm 的玻璃。

HAMAMATSU 滨松 C10323-02E Optical NanoGauge 膜厚测量系统

Optical NanoGauge 膜厚测量系统 C10323 是一种显微膜厚测量系统。如果物体具有会产生高水平散射光的不规则表面,则无法在宏观层面上进行测量。对于这些类型的对象,测量小面积会减少散射光,从而可以进行测量。 C10323-02E 的电源电压为 AC200 V 至 AC240 V。

HAMAMATSU 滨松 C10323-02 Optical NanoGauge 膜厚测量系统

Optical NanoGauge 膜厚测量系统 C10323 是一种显微膜厚测量系统。如果物体具有会产生高水平散射光的不规则表面,则无法在宏观层面上进行测量。对于这些类型的对象,测量小面积会减少散射光,从而可以进行测量。 C10323-02 的电源电压为 AC100 V 至 AC120 V。

HAMAMATSU 滨松 C10178-03E Optical NanoGauge 膜厚测量系统

Optical NanoGauge 膜厚测量系统 C10178 是一种利用光谱干涉法的非接触式膜厚测量系统。通过光谱干涉法以高灵敏度和高精度快速测量薄膜厚度。我们的产品使用多通道光谱仪 PMA 作为探测器,可以测量量子产率、反射、透射/吸收和各种其他点,同时测量各种滤光片和涂层膜的厚度等。

HAMAMATSU 滨松 C13027-12 Optical NanoGauge 膜厚测量系统

Optical NanoGauge 膜厚测量系统 C13027 是一种利用光谱干涉法的非接触式膜厚测量系统。C13027 不仅支持 PLC 连接,而且比其他型号更紧凑,易于安装到设备中。我们的 Optical Gauge 系列能够测量低至 10 nm 的极薄薄膜的厚度,并覆盖从 10 nm 到 100 μm 的宽范围薄膜厚度。Optical Gauge 系列还可快速测量高达 200 Hz 的功率,因此是高速生产线测量的理想选择。

HAMAMATSU 滨松 C12562-04 Optical NanoGauge 膜厚测量系统

Optical NanoGauge 膜厚测量系统 C12562 是一款紧凑、节省空间的非接触式薄膜膜厚测量系统,可根据需要轻松安装在设备中。在半导体行业,因为硅穿孔技术的流行,硅厚度的测量至关重要;在薄膜生产行业,粘合层薄膜越来越薄,以满足产品规格。因此,这些行业现在需要更高的厚度测量精度,测量范围从 1 μm 到 300 μm。C12562 允许在 500 nm 至 300 μm 的宽厚度范围内进行精确测量,包括薄膜涂层和薄膜基板厚度以及总厚度。C12562 还提供高达 100 Hz 的快速测量,是高速生产线测量的理想选择。

HAMAMATSU 滨松 C15151-01 Optical NanoGauge 膜厚测量系统

Optical NanoGauge 膜厚测量系统 C15151-01 是一种利用光谱干涉法的非接触式膜厚测量系统。这种大功率、高度稳定的白光源支持精确测量薄膜厚度,即使是超薄薄膜也是如此。此外,光源的使用寿命为 10,000 小时,适用于在线操作。

HAMAMATSU 滨松 L15077-C7 超连续谱光源

L15077-C7 超连续谱光源是一款紧凑型激光光源,可发射由超短脉冲激光器引起的非线性光学现象产生的宽带近红外激光。 它具有激光的高方向性和高辉度以及灯光源的广谱性等特点。与其他公司的超连续谱光源相比,L15077-C7 的光输出稳定性更高,从而可在各种用途中提供准确的测量、分析和检测。

本站使用百度智能门户搭建 管理登录
粤ICP备12090481号
在线客服